Erstens der Ursprung des gasstabilisierten Plasmaspritzens
Das gasstabile Plasmaspritzen hat sich zu Beginn aus dem wasserstabilen Plasmaspritzen entwickelt. Beim bisherigen Plasmaspritzen wurde hauptsächlich Non-Transfer-Plasmaspritzen verwendet, wobei das Spritzmaterial ein Pulver war. Heutzutage hat sich die Plasmaspritztechnologie rasant weiterentwickelt, vom anfänglichen wasserstabilisierten Plasmaspritzen zum gasstabilisierten Plasmaspritzen.
Zweitens das Grundprinzip des gasstabilen Plasmaspritzens
Gasstabilisiertes Plasmaspritzen erfolgt hauptsächlich durch Erhitzen von Inertgasen (wie Xenon, Argon, Helium, Stickstoff usw.) in der Spritzpistole auf den Ionisierungszustand mit Hilfe der positiven und negativen Elektroden der unter Spannung stehenden Düse, der hoch- Frequenzbogen, der auf den Gasionen erzeugt wird. Die Gasionen werden mit dem pulverförmigen Sprühmaterial vermischt und unter Einwirkung eines Hochfrequenzlichtbogens mit einer Geschwindigkeit von mehr als Mach 1 ausgestoßen und auf das Substrat gesprüht.
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